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离子束刻蚀机 型号：IBE-200P
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离子束刻蚀机 型号：IBE-200P 可加工材料：各种金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、陶瓷、红外和超导，磁学，LED等前沿领域。 核心参数 离子源类型：考夫曼离子源 有效束经：Фb≥200mm 离子能量：0～1000 eV 离子束流：0～300mA 样品台：水冷/氦冷，±90°倾斜，面内旋转。 高真空系统：前级泵＋分子泵 工艺气路：1-2路 刻蚀均匀性：≤±3% Load-lock：可选配进样室 可选配：0ES终点检测 |
