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IBE-200型 离子束刻蚀机
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一、离子束刻蚀系统（IBE）设备功能描述 1. 功能概述 该系统为通用离子束刻蚀系统，除了可进行传统三维结构刻蚀外，还可实现离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等功能，还可选配反应离子束刻蚀（RIBE）。 2. 可加工材料 系统可用于刻蚀加工各种金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等各种材料。 3. 应用领域 广泛适用于半导体、光学、光电子、微电子、微机械、X射线近代光学、通信、导航、卫星、导弹、雷达、核聚变、超导、生物、医学、传感器等多个技术领域，制造各种力、热、声、光、电、磁等新型材料与器件
IBE-200型 离子束刻蚀机 离子源类型；考夫曼离子源 刻蚀材料：金属，非金属，合金，半导体，金属氧化物，氮化物，碳化物，陶瓷，超导等； 该系统主要由考夫曼离子源、高真空工艺系统、恒温水循环系统、气路系统及控制软件构成。适用于超微结构的精密加工，基于自有专利技术及先进设计，保证了优异的刻蚀均匀性和稳定性。
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