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IBE-150型 离子束刻蚀机
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一、离子束刻蚀系统(IBE)设备功能描述 1. 功能概述 该系统为通用离子束刻蚀系统,除了可进行传统三维结构刻蚀外,还可实现离子束清洗、材料表面终极抛光和材料减薄等功能,还可选配反应离子束刻蚀(RIBE)。 2. 可加工材料 系统可用于刻蚀加工各种金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、碳化物、半导体、聚合物、陶瓷、红外和超导等各种材料。 3. 应用领域 广泛适用于半导体、光学、光电子、微电子、微机械、X射线近代光学、通信、导航、卫星、导弹、雷达、核聚变、超导、生物、医学、传感器等多个技术领域,制造各种力、热、声、光、电、磁等新型材料与器件 离子源类型:考夫曼离子源 刻蚀材料:金属,非金属,合金,半导体,金属氧化物,氮化物,碳化物,陶瓷,超导等;
该系统主要由考夫曼离子源、高真空工艺系统、恒温水循环系统、气路系统及控制软件构成。适用于超微结构的精密加工,基于自有专利技术及先进设计,保证了优异的刻蚀均匀性和稳定性。
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