刻镀一体机
刻蚀机
镀膜机
设备名称：刻镀一体机
可加工材料：各种金属、合金、非金属、氧化物、氮化物、陶瓷、红外和超导，磁学，LED等前沿领域。
核心参数
主源/辅源类型：考夫曼离子源
样品台：3～8英寸，面内旋转
靶台：3～4靶
高真空系统：前级泵＋分子泵
工艺气路：1-3路
均匀性：≤±5%
全自动＋半自动控制；支持单工艺和多工艺组、操作记录、运行记录、故障诊断、报警等功能。
可选配：0ES终点检测/膜厚仪。
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