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IBSD-1010双离子束溅射镀膜沉积系统
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IBSD-1010双离子束溅射镀膜沉积系统 产品摘要：该系统为通用双离子束薄膜沉积系统，可用于溅射沉积各种金属、合金、Ⅲ-Ⅴ族化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜，也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物等薄膜，薄膜材料致密性好，损伤低，被广泛应用于光学薄膜，压电传感器，红外等前沿领域。 核心参数 主源—聚焦束溅射离子源：离子能量：0～1000 eV；离子束流：0～90 mA； 辅源：离子能量：0～1000 eV；离子束流：0～100 mA。 有效束经：Фb≥100mm 衬底台；可装4英寸及以下样品 靶台；装靶数：4靶（靶尺寸Ф100mm×δ3~5mm）自动换靶 高真空系统；前级泵＋分子泵 工艺气路：1-3路 镀膜均匀性；≤±5% 全自动＋半自动控制；支持单工艺和多工艺组、操作记录、运行记录、故障诊断、报警等功能。 可选配：膜厚仪 |
